EUV 관련주

테마/2021년 주도테마 2021. 2. 14. 09:24

EUV란?

극자외선(Extreme UltraViolet)으로 웨이퍼에 극도로 미세한 회선을 그리는 기술

EUV는 13.5mm로 회로의 선폭을 줄여 생산성과 완제품 비율을 향상시킬 수 있는 중요한 기술

EUV로 인해 더 작고 강력한 반도체를 만들 수 있다

국내 기업에서는 올해 하반기부터 EUV 전용 신규 생산라인을 가동

2021년부터 EUV 공정을 전면 적용한 차세대 D램 제품을 내놓는다는 계획을 발표

포토마스크 오염을 막고 수명을 연장하는 역할

관련 시장은 기술 장벽이 높아 독과점 구조를 형성(에프에스티 VS 에스앤에스텍)

고부가가치 산업으로 기술 개발에 성공해 초기 시장을 선점할 경우, 세계적인 경쟁력을 강화하는 효과

동사는 1987년 설립되었으며, 2000년 01월 18일 코스닥시장에 상장됨. 동사는 포토마스크용 보호막인 펠리클(Pellicle)과 Chamber 내의 온도조건을 안정적으로 제어하는 온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산함. 동사는 2020년 3분기 현재 동사를 제외하고 (주)에스피텍, XIAN FST.CO.LTD 등 총 3개의 종속회사를 가지고 있음.
2020년 9월 전년동기 대비 연결기준 매출액은 34.4% 증가, 영업이익은 62.1% 증가, 당기순이익은 18.7% 증가. 에프에스티(036810)는 국내 1위 펠리클(포토마스크 오염방지 부품, 국내 반도체 펠리클 M/S 80% 수준) 생산 업체로, EUV용 펠리클 개발 성공에 대한 기대감이 존재함. 2020년 3분기 장비부문 매출액은 640억원으로 전체 매출액의 53%를 점하고 있음.

자회사 오로스테크놀로지 코스닥 상장 예정(2021년 2월 25일)

현재 주가 대비 약25% 상승여력 있음

현재가 32,000원

목표가 40,000원

동사는 반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광되기 전 마스크인 블랭크 마스크 제조 및 판매를 영위하고 있음. System LSI, LCD, OLED 등 국내 고부가가치 확대와 중국 패널업체 전방 산업 투자 확대에 대응하여 제품 및 고객 확대를 위해 노력 중. 블랭크마스크 상품이 매출의 100%를 차지하고 있으며, 중국 패널업체 수요 확대를 위한 신규 공장을 증설함.
2020년 9월 전년동기 대비 연결기준 매출액은 13.9% 증가, 영업이익은 15.7% 증가, 당기순이익은 20.9% 증가. 비메모리 시장 다변화에 따른 High-End 마스크 수요 증가 및 OLED 신기술이 채택됨에 따라 외형 성장 및 수익성이 개선됨. 최근 마스크를 Pellicle로부터 보호해 주는 EUV Pellicle 시장에 진입하였으며, 비메모리, OLED 투자 확대에 따른 실적 개선 전망됨.

현재 주가 대비 약48% 상승여력 있음

현재가 36,950원

목표가 55,000원

1973년 7월에 법인설립되어 반도체 및 TFT-LCD 의 노광공정에 사용되는 Photoresist 관련 전자재료사업과 산업용 기초소재인 발포제사업을 주로 영위함. 반도체 및 평판디스플레이용 감광액과 박리액, 세척액, 식각액 및 태양전지용 전극Paste 등 전자재료를 반도체칩 및 TFT-LCD, 태양전지 등의 제조업체에 납품함. 동사의 주요 매출처는 삼성전자와 하이닉스, 엘지디스플레이와 삼성디스플레이 등이 있음.
2020년 9월 전년동기 대비 연결기준 매출액은 7% 증가, 영업이익은 29.4% 증가, 당기순이익은 52.1% 증가. 내수시장의 주 고객이 3~5개 회사로 구성되어 있다는 한계성이 있으나, 중국의 디스플레이 제조사들의 신규 투자 및 신규공장들의 정상가동으로 당사의 매출증대가 예상됨. 전년 동기대비 매출은 소폭 상승하였으나, 매출원가 및 인건비를 절감하며 영업이익과 당기순이익은 안정적으로 성장함.